Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究

doi:10.3969/j.issn.1004-616x.2014.03.005

癌变·畸变·突变

Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究

杨细飞¹，贺春娥^1，2，汤瑞华¹，田生礼^2，*，刘建军^1，*

深圳市疾病预防控制中心，深圳市现代毒理学重点实验室，广东深圳 518055

收稿日期:2014-02-27 修回日期:2014-03-18 出版日期:2014-05-30 发布日期:2014-05-30
通讯作者: 田生礼，刘建军，E-mail：sltian@szu.edu.cn
作者简介:杨细飞(1978- )，男，湖北省人，博士，副研究员，研究方向：纳米材料的神经毒性研究。
基金资助:
国家自然科学基金(81102154)；广东省医学科研基金资助项目(B2012322)；深圳市科学研究计划(医疗卫生类)(201202086)；深圳市重点实验室提升项目(ZDSY20120615085804889)

A comparative study on the measurement of neuronal cell apoptosis by Hoechst33342/PI double staining and TUNEL assay

YANG Xi-fei¹，HE Chun-e^1，2，TANG Rui-hua¹，TIAN Sheng-li^2，*，LIU Jian-jun^1，*

Key Laboratory of Modern Toxicology of Shenzhen, Medical Key Laboratory of Health Toxicology and Laboratory of Modern Toxicology, Shenzhen Center for Disease Control and Prevention, Shenzhen 518055

Received:2014-02-27 Revised:2014-03-18 Online:2014-05-30 Published:2014-05-30

摘要/Abstract

摘要：

目的：利用Hoechst33342/PI双染法和原位末端标记法(TUNEL)染色检测纳米二氧化硅(nm-SiO2)对神经细胞凋亡的影响，比较两种检测方法的优缺点。方法：以体外培养的人神经母细胞瘤SK-N-SH为研究对象，15和30 nm粒径的nm-SiO2(剂量为2.5、5、10 μg/mL)分别处理细胞24 h，另设1~5 μm SiO2组和溶剂对照组，采用Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色检测各处理组对SK-N-SH细胞凋亡的影响。结果：与对照组相比，两种检测方法分析均显示了nm-SiO2处理组SK-N-SH细胞凋亡率显著增加(P<0.05)，且具有尺寸、剂量依赖性，而微米级SiO2对凋亡的影响不显著(P>0.05)。结论：nm-SiO2能诱导SK-N-SH细胞凋亡。Hoechst33342/PI双染法特异性高，简单易行；TUNEL法灵敏度高，能检测少量的细胞凋亡，但成本较高，两种方法可结合使用以便更加准确的检测神经细胞的凋亡。

关键词: 纳米二氧化硅, 神经细胞, 凋亡, Hoechst33342/PI双染, TUNEL

Abstract:

OBJECTIVE: To evaluate the effects of nano-silica(nm-SiO2) on apoptosis of neuroblastoma cells，and compare the advantages and disadvantages of Hoechst33342/PI staining and TUNEL assay in apoptosis measurement. METHODS：Cultured human neuroblastoma SK-N-SH cells were treated with nm-SiO2 (15 and 30 nm) and micro-sized SiO2 at different doses (2.5，5 and 10 μg/mL) for 24 h. Apoptotic cells were detected by Hoechst33342/PI and TUNEL staining. RESULTS：Compared with normal control，the percentages of total apoptosis in nm-SiO2-treated cells were significantly increased by both methods. CONCLUSION：nm-SiO2 increased apoptosis of SK-N-SH cells in a dose- and size-dependent manner. Hoechst33342/PI is more specific，cheaper and simpler，while TUNEL assay is more sensitive. It is recommended to combine these two methods to assess apoptosis in neuronal cells.

Key words: nm-SiO2, neuronal cells, apoptosis, Hoechst33342/PI double staining, TUNEL

杨细飞，贺春娥，汤瑞华，田生礼，刘建军. Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究[J]. 癌变·畸变·突变, doi: 10.3969/j.issn.1004-616x.2014.03.005.

YANG Xi-fei，HE Chun-e，TANG Rui-hua，TIAN Sheng-li，LIU Jian-jun，. A comparative study on the measurement of neuronal cell apoptosis by Hoechst33342/PI double staining and TUNEL assay[J]. Carcinogenesis, Teratogenesis & Mutagenesis, doi: 10.3969/j.issn.1004-616x.2014.03.005.

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Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究

A comparative study on the measurement of neuronal cell apoptosis by Hoechst33342/PI double staining and TUNEL assay

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